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praseodymium镨微米粉

纯度：99.5％，尺寸：325mesh

技术属性：

应用过程：

praseodymium在1 k< /span> 的任何温度下具有顺磁性特性。
它与各种矿物质中的其他稀土结合在一起。它可以在< /span> 中找到矿物质和bastnasite。
它具有反应性并在空气中氧化。

praseodymium用作合金剂，用于制造飞机中使用的高强度金属。它也被使用
在超级磁铁中，由于其磁性特性。 praseodymium用作玻璃和光纤纤维中的掺杂剂。它给出
眼镜和立方锆的黄色。它还在电子产品中应用。它用于碳的核心
在工作室照明和投影仪灯中使用的弧光。

溅射靶材的应用；

• 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
  沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
• 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
  的情况下，选择了溅射蚀刻 需要，选择性不是问题。
• 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中，其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射，
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材，
的组成 可以确定靶材材料，甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一，该过程改变了物理和
无气体的化学特性，例如小行星和月亮。

lanthanum Nickel氧化物具有LANIO的化学配方 ₃ 是具有金属电导率的重要钙钛矿型氧化物。

灯笼镍氧化物是具有独特化学和物理特性的三元化合物。它显示了延长的缺氧组成，
一种不常见的"&"内在N型金属电导，钙钛矿晶体结构以及热和化学稳定性。这些特征使lno
在许多潜在的应用中，技术上重要的钙钛矿氧化物电极，例如铁电薄膜电容器，固体氧化物燃料电池，非挥发性
铁电随机访问记忆和多层执行器。

此外，LNO膜具有用作氧气和乙醇活性传感层的潜力。此外，据报道，降低的La – Ni混合氧化物被报告为
成为合成有机化合物的良好催化剂前体，并生长大量的常规直径分布控制的碳纳米管。
不同的化学和物理薄膜沉积技术已用于在各种底物上制备LNO。化学"&"方法，例如化学蒸气
沉积，金属有机化学蒸气沉积和化学溶液沉积已用于制备LNO膜。溅射等物理方法，
还报道了脉冲激光沉积和雾化血浆蒸发。湿化学溶液沉积技术提供了简单而通用的替代方案
薄膜制备的方法。

溅射靶材的应用;

使用溅射靶材完成膜沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”，它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时，溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料，还利用溅射靶标进行研究。
在次级离子光谱法中，一个例子"&"是靶材材料以稳定的速度溅射时。质谱法用于量化斑点原子的浓度和身份，因为靶标被溅射。

可以确定靶材材料的组成，甚至可以在溅射靶材的帮助下找到浓度很低的污染物。

还有一个应用程序区域用于溅射空间靶材。一种类型的空间风化，改变了月球和小行星等无空中世界的化学和物理特征正在溅射。

铝纳米圆牛/纳米颗粒

纯度：99.995％，尺寸：38 nm，金属基础

技术属性：

应用程序：

铝纳米颗粒具有高反应性和易燃性，因此应谨慎和快速移动处理，应避免振动。
纳米脂应该远离阳光，任何形式的加热，水分和冲击。颗粒的凝结是一个严重的问题，因此，
纳米脂应在真空下密封，应保持在凉爽干燥的条件下。

应避免空气接触。铝纳米库可以用于催化应用以及生物医学研究。它可以添加到热量
转移液体，复合材料，包装材料，透明导电流体和耐耐药零件以增强其性质。

溅射靶材的应用；

• 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
  沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
• 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
  的情况下，选择了溅射蚀刻 需要，选择性不是问题。
• 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中，其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射，
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材，
的组成 可以确定靶材材料，甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一，该过程改变了物理和
无气体的化学特性，例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号，是银色白色，柔软，延性金属，是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧，强度，耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中，均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。

溅射靶材的应用；

• 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
  沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
• 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
  的情况下，选择了溅射蚀刻 需要，选择性不是问题。
• 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中，其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射，
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材，
的组成 可以确定靶材材料，甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一，该过程改变了物理和
无气体的化学特性，例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号，是银色白色，柔软，延性金属，是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧，强度，耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中，均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。

溅射靶材的应用；

• 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
  沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
• 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
  的情况下，选择了溅射蚀刻 需要，选择性不是问题。
• 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中，其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射，
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材，
的组成 可以确定靶材材料，甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一，该过程改变了物理和
无气体的化学特性，例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号，是银色白色，柔软，延性金属，是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧，强度，耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中，均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。