稀土材料包括哪些

镨微米粉体(Pr)微米粉体,纯度:99.5%,Size:325mesh

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Nanochemazone951
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100 grams
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100克/840

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praseodymium镨微米粉

纯度:99.5%,尺寸:325mesh

技术属性:

纯度

99.5%

粒径

325mesh

熔点

931°C

沸点

3512°C

密度

6.773 g/cc

form

粉末

电阻率

68 microhm-cm @ 25°C

 

应用过程:

praseodymium在1 k< /span> 的任何温度下具有顺磁性特性。
它与各种矿物质中的其他稀土结合在一起。它可以在< /span> 中找到矿物质和bastnasite。
它具有反应性并在空气中氧化。

praseodymium用作合金剂,用于制造飞机中使用的高强度金属。它也被使用
在超级磁铁中,由于其磁性特性。 praseodymium用作玻璃和光纤纤维中的掺杂剂。它给出
眼镜和立方锆的黄色。它还在电子产品中应用。它用于碳的核心
在工作室照明和投影仪灯中使用的弧光。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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Nanochemaznone
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Nanochemazone950
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

lanthanum Nickel氧化物具有LANIO的化学配方 3 是具有金属电导率的重要钙钛矿型氧化物。

灯笼镍氧化物是具有独特化学和物理特性的三元化合物。它显示了延长的缺氧组成,
一种不常见的"&"内在N型金属电导,钙钛矿晶体结构以及热和化学稳定性。这些特征使lno
在许多潜在的应用中,技术上重要的钙钛矿氧化物电极,例如铁电薄膜电容器,固体氧化物燃料电池,非挥发性
铁电随机访问记忆和多层执行器。

此外,LNO膜具有用作氧气和乙醇活性传感层的潜力。此外,据报道,降低的La – Ni混合氧化物被报告为
成为合成有机化合物的良好催化剂前体,并生长大量的常规直径分布控制的碳纳米管。
不同的化学和物理薄膜沉积技术已用于在各种底物上制备LNO。化学"&"方法,例如化学蒸气
沉积,金属有机化学蒸气沉积和化学溶液沉积已用于制备LNO膜。溅射等物理方法,
还报道了脉冲激光沉积和雾化血浆蒸发。湿化学溶液沉积技术提供了简单而通用的替代方案
薄膜制备的方法。

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Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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Nanochemazone949
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溅射靶材的应用;

使用溅射靶材完成膜沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”,它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时,溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料,还利用溅射靶标进行研究。
在次级离子光谱法中,一个例子"&"是靶材材料以稳定的速度溅射时。质谱法用于量化斑点原子的浓度和身份,因为靶标被溅射。

 

可以确定靶材材料的组成,甚至可以在溅射靶材的帮助下找到浓度很低的污染物。

还有一个应用程序区域用于溅射空间靶材。一种类型的空间风化,改变了月球和小行星等无空中世界的化学和物理特征正在溅射。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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Nanochemazone948
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Nanochemazone947
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铝纳米圆牛/纳米颗粒

纯度:99.995%,尺寸:38 nm,金属基础

技术属性:

"&"> "&"
散装密度跨度> 0,22
true密度跨度> 2,7
颜色 黑色
shape 球形
晶体结构 cutic
平均粒径 38 "&"
特定表面积 30-45 "&"
元素分析 al si fe cu mg,mn,pb,ni,zn
99.995 "&"pan> 0.01 0.01 0.03 ≤0.01

应用程序:

铝纳米颗粒具有高反应性和易燃性,因此应谨慎和快速移动处理,应避免振动。
纳米脂应该远离阳光,任何形式的加热,水分和冲击。颗粒的凝结是一个严重的问题,因此,
纳米脂应在真空下密封,应保持在凉爽干燥的条件下。

应避免空气接触。铝纳米库可以用于催化应用以及生物医学研究。它可以添加到热量
转移液体,复合材料,包装材料,透明导电流体和耐耐药零件以增强其性质。

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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中,均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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Nanochemazone945
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中"&",其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝"&"也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中,均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中"&",其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝"&"也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中,均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。

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Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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Nanochemaznone
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Nanochemazone943
货号/规格
EACH
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2952
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
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Nanochemazone942
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  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
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  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
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使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
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溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
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本商品的展示的人民币价格已包含商品本身金额、VAT增值税13%、国际运输运费、国内物流运费、运输保险、以及冷链包装材料(例如液氮罐、泡沫箱、金属桶、蓝冰、湿冰、干冰、蓄冷剂、液氮等)、装卸费、相关资料费、人力支出等一切费用。

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Chemazone Inc
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主要内容

溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性"&"以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中,均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中,均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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Nanochemaznone
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
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Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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Nanochemaznone
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Nanochemazone938
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
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  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
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使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
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为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
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铝(Al)溅射靶材,纯度:99.999%,Size:8”,厚:0.125”

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Nanochemaznone
货号/SKU
Nanochemazone936
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本商品人民币2024年销售价格正在调整中,请等待更新完毕。

本商品的展示的人民币价格已包含商品本身金额、VAT增值税13%、国际运输运费、国内物流运费、运输保险、以及冷链包装材料(例如液氮罐、泡沫箱、金属桶、蓝冰、湿冰、干冰、蓄冷剂、液氮等)、装卸费、相关资料费、人力支出等一切费用。

本商品的美元价、市场价、零售价、厂商指导价或该商品的曾经展示过的销售价等,并非商品原价,仅供参考。

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Chemazone Inc
产品基础信息
部分规格并未上架,大批量需问客服
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中文产品内容仅供参考,如专业术语有误,请以官网英文为准!
主要内容

溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中,均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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货号/SKU
Nanochemazone935
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本商品人民币2024年销售价格正在调整中,请等待更新完毕。

本商品的展示的人民币价格已包含商品本身金额、VAT增值税13%、国际运输运费、国内物流运费、运输保险、以及冷链包装材料(例如液氮罐、泡沫箱、金属桶、蓝冰、湿冰、干冰、蓄冷剂、液氮等)、装卸费、相关资料费、人力支出等一切费用。

本商品的美元价、市场价、零售价、厂商指导价或该商品的曾经展示过的销售价等,并非商品原价,仅供参考。

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中文产品内容仅供参考,如专业术语有误,请以官网英文为准!
主要内容

溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中,均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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Nanochemaznone
货号/SKU
Nanochemazone934
货号/规格
EACH
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1488
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中,均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。

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Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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Nanochemaznone
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Nanochemazone933
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中,均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。

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Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

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使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
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溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中,均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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Nanochemazone931
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本商品人民币2024年销售价格正在调整中,请等待更新完毕。

本商品的展示的人民币价格已包含商品本身金额、VAT增值税13%、国际运输运费、国内物流运费、运输保险、以及冷链包装材料(例如液氮罐、泡沫箱、金属桶、蓝冰、湿冰、干冰、蓄冷剂、液氮等)、装卸费、相关资料费、人力支出等一切费用。

本商品的美元价、市场价、零售价、厂商指导价或该商品的曾经展示过的销售价等,并非商品原价,仅供参考。

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Chemazone Inc
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部分规格并未上架,大批量需问客服
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中文产品内容仅供参考,如专业术语有误,请以官网英文为准!
主要内容

溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
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货号/规格
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2712
人民币价格说明
本商品人民币2024年销售价格正在调整中,请等待更新完毕。

本商品的展示的人民币价格已包含商品本身金额、VAT增值税13%、国际运输运费、国内物流运费、运输保险、以及冷链包装材料(例如液氮罐、泡沫箱、金属桶、蓝冰、湿冰、干冰、蓄冷剂、液氮等)、装卸费、相关资料费、人力支出等一切费用。

本商品的美元价、市场价、零售价、厂商指导价或该商品的曾经展示过的销售价等,并非商品原价,仅供参考。

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Chemazone Inc
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部分规格并未上架,大批量需问客服
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中文产品内容仅供参考,如专业术语有误,请以官网英文为准!
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
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Nanochemaznone
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Nanochemazone929
货号/规格
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3312
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
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Nanochemazone928
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  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
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  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中,均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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部分规格并未上架,大批量需问客服
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主要内容

溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中,均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。

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Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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本商品人民币2024年销售价格正在调整中,请等待更新完毕。

本商品的展示的人民币价格已包含商品本身金额、VAT增值税13%、国际运输运费、国内物流运费、运输保险、以及冷链包装材料(例如液氮罐、泡沫箱、金属桶、蓝冰、湿冰、干冰、蓄冷剂、液氮等)、装卸费、相关资料费、人力支出等一切费用。

本商品的美元价、市场价、零售价、厂商指导价或该商品的曾经展示过的销售价等,并非商品原价,仅供参考。

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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

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Nanochemaznone
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Nanochemazone924
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
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  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号,是银色白色,柔软,延性金属,是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧,强度,耐用性以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝"&"溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中,均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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本商品的美元价、市场价、零售价、厂商指导价或该商品的曾经展示过的销售价等,并非商品原价,仅供参考。

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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中"&",其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

氮化铝是一种具有Aln.Aluminum硝酸盐配方的化学化合物 特性。氮化铝铝的高质量膜已在包括光学和光电设备在内的各种设备和传感器中使用。如
与光学和光电应用有关,"&"宽带隙以及高权 - 索引和低吸收
系数使ALN成为这些应用的非常有吸引力的材料。除此之外,Aln膜的热和化学稳定性使其成为
适用于困难环境中的应用。

如今,Aln膜 /涂料已通过几种包括脉冲激光沉积,反应性分子束外延,真空
的方法生长 弧/阴极弧沉积,直流/RF反应性溅射,离子束溅射,金属有机化学蒸气沉积和其他
其他技术。由于简单性,可重复性,易于扩展性和较低的成本,磁控溅射是生长
的常见方法之一 用于各种应用的Aln电影。

ALN膜的特性取决于晶体结构,晶体取向,微结构和化学成分,这又取决于
沉积条件,例如溅射功率,脉搏频率,占空比,生长温度,氮 /氩气流比和溅射气体
压力。 ALN溅射靶标可通过反应性DC磁控溅射系统的方法给予良好的结果。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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铝氮化物(AlN)溅射靶材,elastomer,纯度:99.8%,Size:2”,厚:0.125”

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Nanochemaznone
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Nanochemazone920
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EACH
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21216
人民币价格说明
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

氮化铝是一种具有Aln.Aluminum硝酸盐配方的化学化合物 特性。氮化铝铝的高质量膜已在包括光学和光电设备在内的各种设备和传感器中使用。如
与光学和光电应用有关,宽带隙以及高权 - 索引和低吸收
系数使ALN成为这些应用的非常有吸引力的材料。除此之外,Aln膜的热和化学稳定性使其成为
适用于困难环境中的应用。

如今,Aln膜 /涂料已通过几种包括脉冲激光沉积,反应性分子束外延,真空
的方法生长 弧/阴极弧沉积,直流/RF反应性溅射,离子束溅射,金属有机化学蒸气沉积和其他
其他技术。由于简单性,可重复性,易于扩展性和较低的成本,磁控溅射是生长
的常见方法之一 用于各种应用的Aln电影。

AL"&"N膜的特性取决于晶体结构,晶体取向,微结构和化学成分,这又取决于
沉积条件,例如溅射功率,脉搏频率,占空比,生长温度,氮 /氩气流比和溅射气体
压力。 ALN溅射靶标可通过反应性DC磁控溅射系统的方法给予良好的结果。

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Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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铝氮化物(AlN)溅射靶材,elastomer,纯度:99.8%,Size:2”,厚:0.125”

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Nanochemaznone
货号/SKU
Nanochemazone919
货号/规格
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溅射靶材的应用;

使用溅射靶材完成膜沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”,它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时,溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料,还利用溅射靶标进行研究。
在次级离子光谱法中,一个例子"&"是靶材材料以稳定的速度溅射时。质谱法用于量化量溅射,量化原子的浓度和身份。在溅射靶材的帮助下,

可以识别靶材材料,甚至可以检测到令人难以置信的杂质数量。

还有一个应用程序区域用于溅射空间靶材。一种类型的空间风化是溅射,这一过程会改变物理和
没有空气的物体的化学特征,例如月球和小行星。

氮化铝是具有配方ALN的化合物。它具有优质的机械,化学和物理特性。
属性。氮化铝膜上的上铝已经在各种传感器和设备中进行了应用,包括光电子和光学。如
关于光学和光电应用,大带隙,高折射率和最小吸收
由于其系数,ALN是这些应用的极具吸引力的材料。

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通常2-3周;特殊货期订购前告知
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人民币价格说明
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

氮化铝是一种具有Aln.Aluminum硝酸盐配方的化学化合物 特性。氮化铝铝的高质量膜已在包括光学和光电设备在内的各种设备和传感器中使用。如
与光学和光电应用有关,宽带隙以及高权 - 索引和低吸收
系数使ALN成为这些应用的非常有吸引力的材料。除此之外,Aln膜的热和化学稳定性使其成为
适用于困难环境中的应用。

如今,Aln膜 /涂料已通过几种包括脉冲激光沉积,反应性分子束外延,真空
的方法生长 弧/阴极弧沉积,直流/RF反应性溅射,离子束溅射,金属有机化学蒸气沉积和其他
其他技术。由于简单性,可重复性,易于扩展性和较低的成本,磁控溅射是生长
的常见方法之一 用于各种应用的Aln电影。

AL"&"N膜的特性取决于晶体结构,晶体取向,微结构和化学成分,这又取决于
沉积条件,例如溅射功率,脉搏频率,占空比,生长温度,氮 /氩气流比和溅射气体
压力。 ALN溅射靶标可通过反应性DC磁控溅射系统的方法给予良好的结果。

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Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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Nanochemaznone
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Nanochemazone917
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本商品人民币2024年销售价格正在调整中,请等待更新完毕。

本商品的展示的人民币价格已包含商品本身金额、VAT增值税13%、国际运输运费、国内物流运费、运输保险、以及冷链包装材料(例如液氮罐、泡沫箱、金属桶、蓝冰、湿冰、干冰、蓄冷剂、液氮等)、装卸费、相关资料费、人力支出等一切费用。

本商品的美元价、市场价、零售价、厂商指导价或该商品的曾经展示过的销售价等,并非商品原价,仅供参考。

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Chemazone Inc
产品基础信息
部分规格并未上架,大批量需问客服
产品安全信息
中文产品内容仅供参考,如专业术语有误,请以官网英文为准!
主要内容

溅射靶材的应用;

用于膜沉积,采用溅射靶材。使用“靶材”来源将材料像硅晶片一样侵蚀材料上,溅射靶材是沉积薄层的技术。
使用半导体溅射靶材蚀刻靶标。当需要在很大程度上需要蚀刻各向异性并且选择性不是问题时,溅射是选择的方法。
通过蚀刻靶材材料,还利用了溅射靶标进行研究。
在一个实例中,在次级离子光谱中以稳定的速度溅射靶材样品。使用质谱法,确定射精靶标的浓度和身份。在溅射靶材的帮助下

可以识别靶材材料,甚至可以检测到令人难以"&"置信的小杂质。

还有一个用于溅射靶材的应用区域。一种类型的空间风化,改变了月球和小行星等无空中世界的化学和物理特征正在溅射。

化合物氮化铝的配方奶粉。氮化铝铝的机械,化学和物理特性的组合是例外。氮化铝膜上的上铝已经在各种传感器和设备中进行了应用,包括光电子和光学。关于光学和光电应用,由于其宽带隙,高折射率和低吸收系数,ALN是非常理想的材料。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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Nanochemaznone
货号/SKU
Nanochemazone916
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EACH
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8928
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本商品人民币2024年销售价格正在调整中,请等待更新完毕。

本商品的展示的人民币价格已包含商品本身金额、VAT增值税13%、国际运输运费、国内物流运费、运输保险、以及冷链包装材料(例如液氮罐、泡沫箱、金属桶、蓝冰、湿冰、干冰、蓄冷剂、液氮等)、装卸费、相关资料费、人力支出等一切费用。

本商品的美元价、市场价、零售价、厂商指导价或该商品的曾经展示过的销售价等,并非商品原价,仅供参考。

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Chemazone Inc
产品基础信息
部分规格并未上架,大批量需问客服
产品安全信息
中文产品内容仅供参考,如专业术语有误,请以官网英文为准!
主要内容

溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

氮化铝是一种具有Aln.Aluminum硝酸盐配方的化学化合物 特性。氮化铝铝的高质量膜已在包括光学和光电设备在内的各种设备和传感器中使用。如
与光学和光电应用有关,宽带隙以及高权 - 索引和低吸收
系数使ALN成为这些应用的非常有吸引力的材料。除此之外,Aln膜的热和化学稳定性使其成为
适用于困难环境中的应用。

如今,Aln膜 /涂料已通过几种包括脉冲激光沉积,反应性分子束外延,真空
的方法生长 弧/阴极弧沉积,直流/RF反应性溅射,离子束溅射,金属有机化学蒸气沉积和其他
其他技术。由于简单性,可重复性,易于扩展性和较低的成本,磁控溅射是生长
的常见方法之一 用于各种应用的Aln电影。

AL"&"N膜的特性取决于晶体结构,晶体取向,微结构和化学成分,这又取决于
沉积条件,例如溅射功率,脉搏频率,占空比,生长温度,氮 /氩气流比和溅射气体
压力。 ALN溅射靶标可通过反应性DC磁控溅射系统的方法给予良好的结果。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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Nanochemaznone
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Nanochemazone915
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主要内容

溅射靶材的应用;

使用溅射靶材完成膜沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”,它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时,溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料,还利用溅射靶标进行研究。
在次级离子光谱法中,一个例子"&"是靶材材料以稳定的速度溅射时。质谱法用于量化量溅射,量化原子的浓度和身份。在溅射靶材的帮助下,

使用质谱法,确定了斑点原子的识别和浓度。可以确定靶材材料的组成,甚至在溅射靶标的帮助下也可以找到非常低的污染物。

还有一个应用程序区域用于溅射空间靶材。一种类型的空间风化,改变了月球和小行星等无空中世界的化学和物理特征正在溅射。

化学化合物氮化铝的配方。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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Nanochemazone914
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主要内容

溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中"&",其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

氮化铝是一种具有Aln.Aluminum硝酸盐配方的化学化合物 特性。氮化铝铝的高质量膜已在包括光学和光电设备在内的各种设备和传感器中使用。如
与光学和光电应用有关,"&"宽带隙以及高权 - 索引和低吸收
系数使ALN成为这些应用的非常有吸引力的材料。除此之外,Aln膜的热和化学稳定性使其成为
适用于困难环境中的应用。

如今,Aln膜 /涂料已通过几种包括脉冲激光沉积,反应性分子束外延,真空
的方法生长 弧/阴极弧沉积,直流/RF反应性溅射,离子束溅射,金属有机化学蒸气沉积和其他
其他技术。由于简单性,可重复性,易于扩展性和较低的成本,磁控溅射是生长
的常见方法之一 用于各种应用的Aln电影。

ALN膜的特性取决于晶体结构,晶体取向,微结构和化学成分,这又取决于
沉积条件,例如溅射功率,脉搏频率,占空比,生长温度,氮 /氩气流比和溅射气体
压力。 ALN溅射靶标可通过反应性DC磁控溅射系统的方法给予良好的结果。

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Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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溅射靶材的应用;

使用溅射靶材完成膜沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”,它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时,溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料,还利用溅射靶标进行研究。
在次级离子光谱法中,一个例子"&"是靶材材料以稳定的速度溅射时。质谱法用于量化量溅射,量化原子的浓度和身份。在溅射靶材的帮助下

质谱法测量了溅射原子的浓度和身份。可以确定靶材材料的组成,甚至在溅射靶标的帮助下也可以找到非常低的污染物。

还有一个应用程序区域用于溅射空间靶材。一种类型的空间风化,改变了月球和小行星等无空中世界的化学和物理特征正在溅射。

化学化合物氮化铝的配方。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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本商品的美元价、市场价、零售价、厂商指导价或该商品的曾经展示过的销售价等,并非商品原价,仅供参考。

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Chemazone Inc
产品基础信息
部分规格并未上架,大批量需问客服
产品安全信息
中文产品内容仅供参考,如专业术语有误,请以官网英文为准!
主要内容

溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中"&",其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

氮化铝是一种具有Aln.Aluminum硝酸盐配方的化学化合物 特性。氮化铝铝的高质量膜已在包括光学和光电设备在内的各种设备和传感器中使用。如
与光学和光电应用有关,"&"宽带隙以及高权 - 索引和低吸收
系数使ALN成为这些应用的非常有吸引力的材料。除此之外,Aln膜的热和化学稳定性使其成为
适用于困难环境中的应用。

如今,Aln膜 /涂料已通过几种包括脉冲激光沉积,反应性分子束外延,真空
的方法生长 弧/阴极弧沉积,直流/RF反应性溅射,离子束溅射,金属有机化学蒸气沉积和其他
其他技术。由于简单性,可重复性,易于扩展性和较低的成本,磁控溅射是生长
的常见方法之一 用于各种应用的Aln电影。

ALN膜的特性取决于晶体结构,晶体取向,微结构和化学成分,这又取决于
沉积条件,例如溅射功率,脉搏频率,占空比,生长温度,氮 /氩气流比和溅射气体
压力。 ALN溅射靶标可通过反应性DC磁控溅射系统的方法给予良好的结果。

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Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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溅射靶材的应用;

使用溅射靶材完成膜沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”,它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时,溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料,还利用溅射靶标进行研究。
在次级离子光谱法中,一个例子"&"是靶材材料以稳定的速度溅射时。质谱法用于量化量溅射,量化原子的浓度和身份。在溅射靶材的帮助下,

可以识别靶材材料的组成,甚至可以检测到令人难以置信的低杂质数量。

还有一个应用程序区域用于溅射空间靶材。一种类型的空间风化,改变了月球和小行星等无空中世界的化学和物理特征正在溅射。

化学复合氮化铝具"&"有公式Aln。氮化铝铝的机械,化学和物理特性的组合是例外。氮化铝膜上的上铝已经在各种传感器和设备中进行了应用,包括光电子和光学。高折射率,低吸收和宽带隙是光学和光电应用的重要特征。

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Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

氮化铝是一种具有Aln.Aluminum硝酸盐配方的化学化合物 特性。氮化铝铝的高质量膜已在包括光学和光电设备在内的各种设备和传感器中使用。如
与光学和光电应用有关,宽带隙以及高权 - 索引和低吸收
系数使ALN成为这些应用的非常有吸引力的材料。除此之外,Aln膜的热和化学稳定性使其成为
适用于困难环境中的应用。

如今,Aln膜 /涂料已通过几种包括脉冲激光沉积,反应性分子束外延,真空
的方法生长 弧/阴极弧沉积,直流/RF反应性溅射,离子束溅射,金属有机化学蒸气沉积和其他
其他技术。由于简单性,可重复性,易于扩展性和较低的成本,磁控溅射是生长
的常见方法之一 用于各种应用的Aln电影。

AL"&"N膜的特性取决于晶体结构,晶体取向,微结构和化学成分,这又取决于
沉积条件,例如溅射功率,脉搏频率,占空比,生长温度,氮 /氩气流比和溅射气体
压力。 ALN溅射靶标可通过反应性DC磁控溅射系统的方法给予良好的结果。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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主要内容

溅射靶材的应用;

使用溅射靶材完成膜沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”,它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时,溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料,还利用溅射靶标进行研究。
在次级离子光谱法中,一个例子"&"是靶材材料以稳定的速度溅射时。质谱法用于量化量溅射,量化原子的浓度和身份。在溅射靶材的帮助下,

可以识别靶材材料,甚至可以检测到令人难以置信的杂质数量。

还有一个应用程序区域用于溅射空间靶材。一种类型的空间风化,改变了月球和小行星等无空中世界的化学和物理特征正在溅射。

化学复合氮化铝具有公式A"&"ln。氮化铝铝的机械,化学和物理特性的组合是例外。氮化铝膜上的上铝已经在各种传感器和设备中进行了应用,包括光电子和光学。关于光学和光电应用,由于其宽带隙,高折射率和低吸收系数,ALN是非常理想的材料。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

氮化铝是一种具有Aln.Aluminum硝酸盐配方的化学化合物 特性。氮化铝铝的高质量膜已在包括光学和光电设备在内的各种设备和传感器中使用。如
与光学和光电应用有关,宽带隙以及高权 - 索引和低吸收
系数使ALN成为这些应用的非常有吸引力的材料。除此之外,Aln膜的热和化学稳定性使其成为
适用于困难环境中的应用。

如今,Aln膜 /涂料已通过几种包括脉冲激光沉积,反应性分子束外延,真空
的方法生长 弧/阴极弧沉积,直流/RF反应性溅射,离子束溅射,金属有机化学蒸气沉积和其他
其他技术。由于简单性,可重复性,易于扩展性和较低的成本,磁控溅射是生长
的常见方法之一 用于各种应用的Aln电影。

AL"&"N膜的特性取决于晶体结构,晶体取向,微结构和化学成分,这又取决于
沉积条件,例如溅射功率,脉搏频率,占空比,生长温度,氮 /氩气流比和溅射气体
压力。 ALN溅射靶标可通过反应性DC磁控溅射系统的方法给予良好的结果。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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溅射靶材的应用;

使用溅射靶材完成膜沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”,它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时,溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料,还利用溅射靶标进行研究。
在次级离子光谱法中,一个例子"&"是靶材材料以稳定的速度溅射时。当靶材破碎时,

可以识别靶材材料,甚至可以检测到令人难以置信的杂质数量。

还有一个应用程序区域用于溅射空间靶材。一种类型的空间风化,改变了月球和小行星等无空中世界的化学和物理特征正在溅射。

化学复合氮化铝具有公式Aln。氮化铝铝的机械,化学和物理特性的组合是例外。"&"氮化铝膜上的上铝已经在各种传感器和设备中进行了应用,包括光电子和光学。关于光学和光电的用途,大带隙,高折射率和低吸收

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中"&",其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

氮化铝是一种具有Aln.Aluminum硝酸盐配方的化学化合物 特性。氮化铝铝的高质量膜已在包括光学和光电设备在内的各种设备和传感器中使用。如
与光学和光电应用有关,"&"宽带隙以及高权 - 索引和低吸收
系数使ALN成为这些应用的非常有吸引力的材料。除此之外,Aln膜的热和化学稳定性使其成为
适用于困难环境中的应用。

如今,Aln膜 /涂料已通过几种包括脉冲激光沉积,反应性分子束外延,真空
的方法生长 弧/阴极弧沉积,直流/RF反应性溅射,离子束溅射,金属有机化学蒸气沉积和其他
其他技术。由于简单性,可重复性,易于扩展性和较低的成本,磁控溅射是生长
的常见方法之一 用于各种应用的Aln电影。

ALN膜的特性取决于晶体结构,晶体取向,微结构和化学成分,这又取决于
沉积条件,例如溅射功率,脉搏频率,占空比,生长温度,氮 /氩气流比和溅射气体
压力。 ALN溅射靶标可通过反应性DC磁控溅射系统的方法给予良好的结果。

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Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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Nanochemazone905
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主要内容

溅射靶材的应用;

溅射靶标的用于膜沉积等其他应用。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”,它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时,溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料,还利用溅射靶标进行研究。
在次级离子光谱法中,一个例子是靶材材料以稳定的速度溅射时。质谱法用于量化斑点原子的浓度和身份,因为靶标被溅射。

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Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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溅射靶材的应用;

使用溅射靶材完成膜沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”,它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时,溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料,还利用溅射靶标进行研究。
在次级离子光谱法中,一个例子"&"是靶材材料以稳定的速度溅射时。当靶材破碎时,

质谱法测量了溅射原子的浓度和身份。可以确定靶材材料的组成,甚至在溅射靶标的帮助下也可以找到非常低的污染物。

还有一个应用程序区域用于溅射空间靶材。一种类型的空间风化,改变了月球和小行星等无空中世界的化学和物理特征正在溅射。

化学复合氮化铝"&"具有公式Aln。氮化铝铝的机械,化学和物理特性的组合是例外。氮化铝膜上的上铝膜已在各种传感器和设备中发现了应用,包括光电和光学。

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铝氮化物(AlN)溅射靶材,纯度:99.8%,Size:4”,厚:0.125”

产品图片
Nanochemaznone
货号/SKU
Nanochemazone903
货号/规格
EACH
库存与交货期
通常2-3周;特殊货期订购前告知
人民币价格
28104
人民币价格说明
本商品人民币2024年销售价格正在调整中,请等待更新完毕。

本商品的展示的人民币价格已包含商品本身金额、VAT增值税13%、国际运输运费、国内物流运费、运输保险、以及冷链包装材料(例如液氮罐、泡沫箱、金属桶、蓝冰、湿冰、干冰、蓄冷剂、液氮等)、装卸费、相关资料费、人力支出等一切费用。

本商品的美元价、市场价、零售价、厂商指导价或该商品的曾经展示过的销售价等,并非商品原价,仅供参考。

厂牌
Chemazone Inc
产品基础信息
部分规格并未上架,大批量需问客服
产品安全信息
中文产品内容仅供参考,如专业术语有误,请以官网英文为准!
主要内容

溅射靶材的应用;

  • 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
    沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
  • 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
    的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。
  • 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成 可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。

氮化铝是一种具有Aln.Aluminum硝酸盐配方的化学化合物 特性。氮化铝铝的高质量膜已在包括光学和光电设备在内的各种设备和传感器中使用。如
与光学和光电应用有关,宽带隙以及高权 - 索引和低吸收
系数使ALN成为这些应用的非常有吸引力的材料。除此之外,Aln膜的热和化学稳定性使其成为
适用于困难环境中的应用。

如今,Aln膜 /涂料已通过几种包括脉冲激光沉积,反应性分子束外延,真空
的方法生长 弧/阴极弧沉积,直流/RF反应性溅射,离子束溅射,金属有机化学蒸气沉积和其他
其他技术。由于简单性,可重复性,易于扩展性和较低的成本,磁控溅射是生长
的常见方法之一 用于各种应用的Aln电影。

AL"&"N膜的特性取决于晶体结构,晶体取向,微结构和化学成分,这又取决于
沉积条件,例如溅射功率,脉搏频率,占空比,生长温度,氮 /氩气流比和溅射气体
压力。 ALN溅射靶标可通过反应性DC磁控溅射系统的方法给予良好的结果。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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货号/SKU
Nanochemazone902
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本商品人民币2024年销售价格正在调整中,请等待更新完毕。

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本商品的美元价、市场价、零售价、厂商指导价或该商品的曾经展示过的销售价等,并非商品原价,仅供参考。

厂牌
Chemazone Inc
产品基础信息
部分规格并未上架,大批量需问客服
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中文产品内容仅供参考,如专业术语有误,请以官网英文为准!
主要内容

溅射靶材的应用;

使用溅射靶材完成膜沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”,它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时,溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料,还利用溅射靶标进行研究。
在次级离子光谱法中,一个例子"&"是靶材材料以稳定的速度溅射时。质谱法用于量化量溅射,量化原子的浓度和身份。在溅射靶材的帮助下,

可以识别靶材材料,甚至可以检测到令人难以置信的杂质数量。

还有一个用于溅射靶材的应用区域。一种类型的空间风化,改变了月球和小行星等无空中世界的化学和物理特征正在溅射。

化学复合氮化铝具有公式Aln"&"。氮化铝铝的机械,化学和物理特性的组合是例外。氮化铝膜上的上铝已经在各种传感器和设备中进行了应用,包括光电子和光学。关于光学和光电应用,由于其宽带隙,高折射率和低吸收系数,ALN是非常理想的材料。

厂牌介绍
Nanochemazone是一家专注于纳米材料与纳米技术研发的高新技术企业。Nanochemazone 为研究和开发以及工业应用提供高质量的纳米技术产品。Nanochemazone 涉足业务的各个方面:Global范围内纳米级、微米级和金属纳米粉末产品的制造、研发、加工、供应和营销。Nanochemazone 产品有预包装的目录尺寸、半散装和散装数量。我们还提供定制合成和特殊包装服务。
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