钡锆酸盐(BaZrO3)溅射靶材,纯度:99.99%,Size:3”,厚:0.125”
溅射靶材的应用;
使用溅射靶材完成膜沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”,它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时,溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料,还利用溅射靶标进行研究。
在次级离子光谱法中,一个例子"&"是靶材材料以稳定的速度溅射时。质谱法用于量化量溅射,量化原子的浓度和身份。在溅射靶材的帮助下,
可以识别靶材材料,甚至可以检测到令人难以置信的杂质数量。
还有一个用于溅射靶材的应用区域。一种类型的空间风化,改变了月球和小行星等无空中世界的化学和物理特征正在溅射。
化学复合锆酸钡具有Bazro"&"3的配方。锆石钡是一种主要用于其电能力的电陶瓷或主要用于其电能的陶瓷材料。在半导体,化学蒸气沉积,物理蒸气沉积和光学应用中,可以采用锆石溅射靶标。锆酸钡溅射靶标也可以用于铁电应用。