镧镍氧化物(LaNiO3)溅射靶材,纯度:99.9%,Size:6”,厚:0.250”

溅射靶材的应用；

• 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
  沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
• 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
  的情况下，选择了溅射蚀刻 需要，选择性不是问题。
• 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中，其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射，
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材，
的组成 可以确定靶材材料，甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一，该过程改变了物理和
无气体的化学特性，例如小行星和月亮。

lanthanum Nickel氧化物具有LANIO的化学配方 ₃ 是具有金属电导率的重要钙钛矿型氧化物。

灯笼镍氧化物是具有独特化学和物理特性的三元化合物。它显示了延长的缺氧组成，
一种不常见的"&"内在N型金属电导，钙钛矿晶体结构以及热和化学稳定性。这些特征使lno
在许多潜在的应用中，技术上重要的钙钛矿氧化物电极，例如铁电薄膜电容器，固体氧化物燃料电池，非挥发性
铁电随机访问记忆和多层执行器。

此外，LNO膜具有用作氧气和乙醇活性传感层的潜力。此外，据报道，降低的La – Ni混合氧化物被报告为
成为合成有机化合物的良好催化剂前体，并生长大量的常规直径分布控制的碳纳米管。
不同的化学和物理薄膜沉积技术已用于在各种底物上制备LNO。化学"&"方法，例如化学蒸气
沉积，金属有机化学蒸气沉积和化学溶液沉积已用于制备LNO膜。溅射等物理方法，
还报道了脉冲激光沉积和雾化血浆蒸发。湿化学溶液沉积技术提供了简单而通用的替代方案
薄膜制备的方法。