铝(Al)溅射靶材,纯度:99.999%,Size:3”,厚:0.250”

溅射靶材的应用；

• 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
  沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。
• 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
  的情况下，选择了溅射蚀刻 需要，选择性不是问题。
• 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。

示例之一发生在次级离子光谱中，其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射，
使用质谱法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材，
的组成 可以确定靶材材料，甚至检测到极低的杂质。

溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一，该过程改变了物理和
无气体的化学特性，例如小行星和月亮。

铝具有Al的化学符号，是银色白色，柔软，延性金属，是第三大元素。铝是应得的
为了轻巧，强度，耐用性"&"以及抵抗腐蚀的能力。铝形成极其薄但非常强的氧化物膜。
铝也具有高热电导率。

铝溅射靶材具有特别细粒的微结构。铝溅射靶材的这种属性可确保您从
中受益 在整个溅射过程中，均匀的侵蚀和对颗粒形成的敏感性低。