钡(Ba)溅射靶材,纯度:99.5%,Size:1”,厚:0.125”
溅射靶材的应用;
使用溅射靶材完成膜沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”,它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时,溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料,还利用溅射靶标进行研究。
在次级离子光谱法中,一个例子"&"是靶材材料以稳定的速度溅射时。质谱法用于量化量溅射,量化原子的浓度和身份。在溅射靶材的帮助下,
可以识别靶材材料,甚至可以检测到令人难以置信的杂质数量。
还有一个用于溅射靶材的应用区域。一种类型的空间风化,改变了月球和小行星等无空中世界的化学和物理特征正在溅射。
a块S,第2组,周期6元素"&",原子量为137.27,钡具有原子符号Ba和原子数56。碱金属之一是钡。可以使用钡溅射靶标将电子设备镀板。钡具有有利的电特性。