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溅射靶材的应用;
使用溅射靶材完成膜沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”，它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时，溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料，还利用溅射靶标进行研究。
在次级离子光谱法中，一个例子"&"是靶材材料以稳定的速度溅射时。质谱法用于量化量溅射，量化原子的浓度和身份。借助溅射靶材的帮助，使用溅射靶材完成了FILM沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”，它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时，溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料，还利用溅射靶标进行研究。
在次级离子光谱法中，一个例子是靶材材料以稳定的速度溅射时。质谱法用于量化量溅射，量化原"&"子的浓度和身份。借助溅射靶材的帮助，使用溅射靶材完成了FILM沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”，它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时，溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料，还利用溅射靶标进行研究。
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使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时，溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料，还利用溅射靶标进行研究。
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使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时，溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料，还利用溅射靶标进行研究。
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通过通过蚀刻去除靶材材料，还利用溅射靶标进行研究。
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通过通过蚀刻去除靶材材料，还利用溅射靶标进行研究。
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在次级离子光谱法中，一个例子是靶材材料以稳定的速度溅射时。质谱法用于量化量溅射，量化原子的浓度和身份。借助溅射靶材的帮助，使用溅射靶材完成了FILM沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”，它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
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在次级离子光谱法中，一个例子是靶材材料以稳定的速度溅射时。质谱法用于量化量溅射，量化原子的浓度和身份。在溅射靶材的帮助下，
可以识别靶材材料，"&"甚至可以检测到令人难以置信的杂质数量。
还有一个应用程序区域用于溅射空间靶材。一种类型的空间风化，改变了月球和小行星等无空中世界的化学和物理特征正在溅射。
a块S，第2组，周期6元素，原子量为137.27，钡具有原子符号Ba和原子数56。碱金属之一是钡。可以使用钡溅射靶标将电子设备镀板。钡具有有利的电特性。
