微米粉体(Pr)溅射靶材,纯度:99.9%,Size:6”,厚:0.250”
溅射靶材的应用;
- 溅射靶材用于膜沉积。溅射靶标的沉积是一种通过溅射
沉积薄膜的方法 这涉及将“靶材”源侵蚀到“基板”上的材料。 - 半导体溅射靶标用于蚀刻靶材。在高度蚀刻各向异性
的情况下,选择了溅射蚀刻 需要,选择性不是问题。 - 溅射靶标也用于通过蚀刻靶材材料来分析。
示例之一发生在次级离子光谱中,其中靶材样品以恒定速率溅射。由于靶材被溅射,
使用质谱"&"法测量溅射原子的浓度和身份。通过帮助溅射靶材,
的组成
可以确定靶材材料,甚至检测到极低的杂质。
溅射靶材在空间中也具有应用区域。溅射是空间风化的形式之一,该过程改变了物理和
无气体的化学特性,例如小行星和月亮。