铬氧化物(Cr2O3)溅射靶材,纯度:99.8%铈99.9%,Size:1”,厚:0.250”
溅射靶材的应用;
使用溅射靶材完成膜沉积。一种用于溅射薄膜的技术称为“溅射靶标制造的沉积”,它需要从“靶”来源侵蚀材料像硅晶片一样的“底物”。
使用半导体溅射靶标进行靶材蚀刻。当选择性不是问题并且需要高度蚀刻各向异性时,溅射是选择的方法。
通过通过蚀刻去除靶材材料,还利用溅射靶标进行研究。
在次级离子光谱法中,一个例子"&"是靶材材料以稳定的速度溅射时。质谱法用于量化斑点原子的浓度和身份,因为靶标被溅射。
可以确定靶材材料的组成,甚至可以在溅射靶材的帮助下找到浓度很低的污染物。
还有一个应用程序区域用于溅射空间靶材。一种类型的空间风化,改变了月球和小行星等无空中世界的化学和物理特征正在溅射。
带有配方c"&"r2O3的无机化学物质是氧化铬。氧化铬溅射靶标的应用很多。让我们研究一些实例,其中采用了氧化铬溅射靶标。 CR2O3薄膜显示出低摩擦系数和高硬度值。由于这些品质,氧化铬是在某些应用中代替Al2O3或过渡金属氮化物的强大竞争者。